化学品の市場調査、研究開発の支援、マーケット情報の出版

CMCリサーチウェビナー【ライブ配信】 のご案内

       開催日時:2021年11月18日(木)13:30~16:30 
       受 講 料:44,000円(税込)  * 資料付
          *メルマガ登録者 39,600円(税込)
          *アカデミック価格 26,400円(税込)
         パンフレット

※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 お申し込み前に、下記リンクから視聴環境をご確認ください。
   → https://zoom.us/test
 ★ アカデミック価格:学校教育法にて規定された国、地方公共団体および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
 ★【メルマガ会員特典】2名以上同時申込かつ申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、1名あたりの参加費がメルマガ会員価格の半額となります。
 ★ お申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。
 
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申込方法

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講 師

渡邊 健夫 氏
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長
極端紫外線リソグラフィー研究開発 センター長 教授

【講師経歴】
 1990年 大阪市立大学大学院 理学研究科 後期博士課程修了 理学博士。
 1990年 シャープ㈱ 中央研究所 DRAMの研究開発に従事(i線、KrF、電子線、X線等倍、EUVの各リソグラフィの技術開発に従事)。
 1996年 旧 姫路工業大学 高度産業科学技術研究所 助手。極端紫外線リソグラ
フィの研究開発に従事。
 2004年 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 助教。極端紫外線リソグラフィの研究開発に従事。
 2008年 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 准教授。
 2015年 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 教授。同研究所 極端紫外線リソグラフィ研究開発センター センター長。
 2016年 兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長・教授。現在に致る

【著 書】
 「リソグラフィー技術その40年」(共著)、S&T出版、2016.12.9.他 18件(共著書を含む)・学術論文 240件以上・特許 多数

【受賞歴】
 1) 大阪ニュークリアサイエンス協会賞 受賞, 2016.5.26.
 2) 2013 International Workshop on EUV Lithography, Takeo Watanabe, 2013.6.14.
 3) 2008 International Workshop on EUV Lithography, Takeo Watanabe, 2008.6.12.
 4) 第7回 日本物理学会 論文賞 受賞, 渡邊健夫他、3月26日,2002.

【研究歴】
 EUV リソグラフィ技術開発は1993年より従事

【学会活動】
 IRDS 半導体国際ロードマップ 委員、システムデバイス(SDRJ)ロードマップ 委員、Photomask Japan 組織委員長、フォトポリマー学会 理事・国際局長・EUVL 国際シンポジウムチェアマン、フォトポリマー懇話会 運営委員、IEPBN 論文委員

【所属学会】
 SPIE、IEEE、応用物理学会、高分子学会、日本放射光学会

【メディア報道】
 ラジオ関西、三上公也の情報アサイチ!「ニュースバルの放射光が切り拓く世界~研究・教育・社会貢献の取り組み~」2018年7月9日、サンテレビ ニュース「ニュースバルの入射器新設にかかる報道機関向け内覧会」2021年4月30日、MBSラジオ 2021年5月2日 日曜コンちゃんおはようさん、MBSラジオ 2021年5月9日 日曜コンちゃん おはようさん、MBS ラジオ 2021年5月13日 こんちわコンちゃんお昼です、他 40件

セミナーの趣旨

 EUVリソグラフィ(EUVL)は2020年よりスマートフォン用のロジックデバイスの量産技術として適用されました。しかしながら、今後のEUVLではまだまだ多くのレジスト、マスク等の基盤技術課題が残っています。これらの技術課題の解決にはこの技術の基礎を理解し、その上で課題克服および今後の展開と言った応用展開をする必要があります。また、世界における日本の半導体技術覇権の課題についても言及いたします。今回の講座を通じて少しでもお役に立てればと存じます。

セミナー対象者

 半導体デバイス、半導体材料、半導体製造装置のメーカーの技術責任者、マネージャー、中堅技術者、担当者(初心者も含む)等の幅広い層

セミナーで得られる知識

 半導体微細加工の変遷と必要性
 EUVリソグラフィ(EUVL)技術開発の歴史
 EUVLの基礎知識(レジスト、マスク、ペリクル、光学、光源等)
 今後のEUVL技術展開、世界の半導体市場動向、日本の半導体技術分野の復興についての考え方

プログラム

               ※ 適宜休憩が入ります。
1.はじめに
  
2.半導体市場動向と半導体国際ロードマップ
  
3.半導体微細加工の変遷とその必要性・効果
  
4.EUVリソグラフィ技術の歴史
  多層膜技術、EUV用露光技術
  
5.EUVマスク技術
  
6.EUVレジスト技術
  
7.兵庫県立大学におけるEUVリソグラフィ技術開発への取組
  
8.Beyond EUV 次世代リソグラフィ技術
  
9.世界における日本の半導体技術覇権の課題およびこの克服に向けて
  
10.まとめ
  
  

関連図書

        機械・装置
        材料・合成技術

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        機械・エレクトロニクス・コンピュータ
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