EUVリソグラフィー・レジスト材料の基礎と応用

　
＊　本ウェビナーは開催済みです。再開催のご要望があれば、お知らせください。

CMCリサーチウェビナー【ライブ配信】

　　　　　　　開催日時：2021年11月18日（木）13:30～16:30　
　　　　　　　受講料：44,000円（税込）　　＊資料付
　　　　　　　　　　＊メルマガ登録者　39,600円（税込）
　　　　　　　　　　＊アカデミック価格　26,400円（税込）
　　　　　　　　　パンフレット

※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
　お申し込み前に、下記リンクから視聴環境をご確認ください。
　　→ https://zoom.us/test
　★ アカデミック価格:学校教育法にて規定された国、地方公共団体および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
　★【メルマガ会員特典】2名以上同時申込かつ申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、1名あたりの参加費がメルマガ会員価格の半額となります。
　★ お申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。

講　師

渡邊健夫氏
兵庫県立大学高度産業科学技術研究所所長
極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長教授

【講師経歴】
　1990年　大阪市立大学大学院理学研究科後期博士課程修了理学博士。
　1990年　シャープ㈱中央研究所 DRAMの研究開発に従事（i線、KrF、電子線、X線等倍、EUVの各リソグラフィの技術開発に従事）。
　1996年　旧姫路工業大学高度産業科学技術研究所助手。極端紫外線リソグラ
フィの研究開発に従事。
　2004年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所助教。極端紫外線リソグラフィの研究開発に従事。
　2008年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所准教授。
　2015年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所教授。同研究所極端紫外線リソグラフィ研究開発センターセンター長。
　2016年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所所長・教授。現在に致る

【著　書】
　「リソグラフィー技術その40年」（共著）、S&T出版、2016.12.9.他 18件（共著書を含む）・学術論文 240件以上・特許多数

【受賞歴】
　1) 大阪ニュークリアサイエンス協会賞受賞, 2016.5.26.
　2) 2013 International Workshop on EUV Lithography, Takeo Watanabe, 2013.6.14.
　3) 2008 International Workshop on EUV Lithography, Takeo Watanabe, 2008.6.12.
　4) 第7回日本物理学会論文賞受賞, 渡邊健夫他、3月26日，2002.

【研究歴】
　EUV リソグラフィ技術開発は1993年より従事

【学会活動】
　IRDS 半導体国際ロードマップ委員、システムデバイス（SDRJ）ロードマップ委員、Photomask Japan 組織委員長、フォトポリマー学会理事・国際局長・EUVL 国際シンポジウムチェアマン、フォトポリマー懇話会運営委員、IEPBN 論文委員

【所属学会】
　SPIE、IEEE、応用物理学会、高分子学会、日本放射光学会

【メディア報道】
　ラジオ関西、三上公也の情報アサイチ！「ニュースバルの放射光が切り拓く世界～研究・教育・社会貢献の取り組み～」2018年7月9日、サンテレビニュース「ニュースバルの入射器新設にかかる報道機関向け内覧会」2021年4月30日、MBSラジオ 2021年5月2日日曜コンちゃんおはようさん、MBSラジオ 2021年5月9日日曜コンちゃんおはようさん、MBS ラジオ 2021年5月13日こんちわコンちゃんお昼です、他 40件

セミナーの趣旨

　EUVリソグラフィ（EUVL）は2020年よりスマートフォン用のロジックデバイスの量産技術として適用されました。しかしながら、今後のEUVLではまだまだ多くのレジスト、マスク等の基盤技術課題が残っています。これらの技術課題の解決にはこの技術の基礎を理解し、その上で課題克服および今後の展開と言った応用展開をする必要があります。また、世界における日本の半導体技術覇権の課題についても言及いたします。今回の講座を通じて少しでもお役に立てればと存じます。

セミナー対象者

　半導体デバイス、半導体材料、半導体製造装置のメーカーの技術責任者、マネージャー、中堅技術者、担当者（初心者も含む）等の幅広い層

セミナーで得られる知識

　半導体微細加工の変遷と必要性
　EUVリソグラフィ（EUVL）技術開発の歴史
　EUVLの基礎知識(レジスト、マスク、ペリクル、光学、光源等)
　今後のEUVL技術展開、世界の半導体市場動向、日本の半導体技術分野の復興についての考え方

プログラム

　　　　　　　　　　　　　　　※ 適宜休憩が入ります。
1．はじめに
　　
2．半導体市場動向と半導体国際ロードマップ
　　
3．半導体微細加工の変遷とその必要性・効果
　　
4．EUVリソグラフィ技術の歴史
　　多層膜技術、EUV用露光技術
　　
5．EUVマスク技術
　　
6．EUVレジスト技術
　　
7．兵庫県立大学におけるEUVリソグラフィ技術開発への取組
　　
8．Beyond EUV 次世代リソグラフィ技術
　　
9．世界における日本の半導体技術覇権の課題およびこの克服に向けて
　　
10．まとめ
　　
　　