化学品の市場調査、研究開発の支援、マーケット情報の出版

CMCリサーチウェビナー【ライブ配信】 のご案内

       開催日時:2020年10月20日(火)13:30~16:30 
       受 講 料:42,000円 + 税  * 資料付
          *メルマガ登録者 37,000 円 + 税
          *アカデミック価格 24,000 円 + 税
         パンフレット

※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 お申し込み前に、下記リンクから視聴環境をご確認ください。
   → https://zoom.us/test
 ★ アカデミック価格:学校教育法にて規定された国、地方公共団体および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
 ★【メルマガ会員特典】2名以上同時申込で申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、2名目は無料、3名目以降はメルマガ価格の半額です。
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申込方法

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講 師

 浦岡 行治 氏  奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授

【講師経歴】
 1985年3月 豊橋技術科学大学大学院 電気電子修士修了
 1985年4月 松下電器産業㈱ 半導体研究センター
 1996年4月 松下電器産業㈱ 液晶開発センター
 1999年4月 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 助教授
 2009年4月 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 教授

【活 動】
 1. 応用物理学会 フェロー
 2. IEEE シニアメンバー
 3. IEEE/AMFPD 国際学会実行委員長
 4. JJAP/APEX 副編集委員長
 5. CMC出版「低温ポリシリコントランジスタの開発」
 6. Intelligent Nanosystems for Energy, Information and Biological Technologies(ISBN: ISBN: 978-4-431-56427-0 (Print) 978-4-431-56429-4 (Online))

セミナーの趣旨

 AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD(原子層堆積)技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、薄膜トランジスタやパワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。

セミナー対象者

 ・半導体プロセス・デバイス技術者・学生/教員・企業関係者・研究企画関係者

セミナーで得られる知識

 ・半導体プロセ ス技術全般(特にALD技術)
 ・半導体デバイス技術(特にMOSデバイス)
 ・半導体材料の評価技術(電気的/化学的/物理的)

プログラム

      ※ 適宜休憩が入ります。

1. 薄膜形成技術
 1.1 薄膜作製の基礎
 1.2 薄膜の評価手法
  1.2.1 電気的評価
  1.2.2 化学的分析手法
  1.2.3 光学的評価手法

2. ALD技術の基礎
 2.1 ALD技術の原理
 2.2 ALD薄膜の特長
 2.3 ALD技術の歴史
 2.4 ALD装置仕組み
 2.5 ALD技術の材料

3. ALD技術の応用
 3.1 半導体分野への活用状況
 3.2 パワーデバイスへの応用
 3.3 酸化物薄膜トランジスへの応用
 3.4 MOS LSIへの応用

4. ALD技術の将来
 4.1 ALD技術の課題
 4.2 ALD技術の展望

 

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        機械・装置

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