～汚染とデバイス特性の関係、伝統的クリーン化技術と局所クリーン化技術、ミニマルファブ技術～
半導体基盤技術のクリーン化が、一日でわかるようになる！
　
※ 本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
【アーカイブ配信：3/11～3/25（何度でも受講可能）】の視聴を希望される方は、 こちら からお申し込み下さい。

R&D支援センターウェビナーのご案内

　　　　　　　開催日時：2026年3月10日（火）10:30～16:30
　　　　　　　開催場所：【WEB限定セミナー】※ 会社やご自宅でご受講ください。
　　　　　　　参 加 費：55,000円（税込）

定　員

　30名

備　考

資料付き【PDFを配布します】

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1）Zoomを使用されたことがない方は、 こちら からミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたについては こちら をご覧ください。
3）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
　無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
　
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申込方法

　下記のカートへの投入、あるいはFAX用紙にてお申込ください。

講　師

国立研究開発法人産業技術総合研究所 首席研究員　　原　史朗 氏

【専門】
半導体全般、クリーン化技術、ファクトリー技術、CPS

【略歴】
早稲田大学理工学部助手、理化学研究所基礎科学特別研究員を経て、1993年、電子技術総合研究所入所。
現在、国立研究開発法人産業技術総合研究所デバイス技術研究部門・首席研究員、兼、一般社団法人ミニマルファブ推進機構推進部長。ショットキーダイオードの特性ばらつきの根源を追い求め、その原因究明のために、局所クリーン化リサーチシステムを開発。
2007年に、投資額を1/1,000にするリスク分散型半導体生産システム・ミニマルファブ構想を創出。局所クリーン化技術を応用したミニマル搬送システムの開発に着手。これをコアテクノロジーとして、ミニマルファブの開発をおよそ150社と推進する。
平成24年度より3年間、ミニマルファブ開発を国家プロジェクト化し、プロジェクトリーダーを務めた。現在、一般社団法人ミニマルファブ推進機構を設立し、その傘下のファブシステム研究会の代表として、
ミニマルファブの産業化を推進している。ミニマルファブをビジネスとして推進する(株)Hundred Semiconductorsを設立、取締役CTO兼務。

受講対象・レベル

　総合的な内容であり、前提として技術レベルを要求しないので、初心者から熟達者までが対象。クリーン化をどうしようか方針で困っている方、そもそも半導体の基幹技術としてのクリーン化を理解したい方、現場の具体的な対策のヒントを得たい方などが対象。

習得できる知識

・クリーンルームの基礎の確認
・局所クリーン化の基礎知識と実用技術
・クリーン化がどのように生産されるデバイス性能に影響するかの総合知識
・良品率向上のためにやるべきこと，やってはいけないこと．汚染対策　

趣　旨

　クリーン化と一言で言っているが、実際には、直径0.1nmの汚染原子と微粒子と呼ばれる直径0.1μmレベル（10の9乗個の原子集団）は峻別して捉え、それぞれデバイス性能とどのような関係があるのかを明快に理解し、それに対する適切な対策をとらなければならない。
　本講演では、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説する。
　本講演内容を把握することで、クリーン化技術全体が理解でき、現場対策だけでなく、プロセス技術者や広く半導体に関連する業務の基礎素養として、役立つ内容となっている。　

プログラム