化学品の市場調査、研究開発の支援、マーケット情報の出版

こちらは1/21実施WEBセミナーのアーカイブ(録画)配信です。期間中何度でも視聴できます
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R&D支援センターウェビナー【アーカイブ配信】のご案内

       配信開始日:2026年1月22日(木)
       配信終了日:2026年2月4日(水)
       参 加 費:49,500円(税込)

備 考

・こちらは 1/21(水)実施WEBセミナー のアーカイブ(録画)配信です。
・配信開始日までにセミナー資料、閲覧用URL(※データの編集は行っておりません)をお送りします。
・セミナー資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
   
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申込方法

 下記のカートへの投入、あるいはFAX用紙にてお申込ください。

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講 師

早稲田大学大学院情報生産システム研究科 教授 博士(理学)  植田 研二 氏

【略歴】
・2000年3月 大阪大学理学研究科(博士課程後期)化学専攻修了、博士(理学)
・2000年4月~2001年1月 大阪大学産業科学研究所 博士研究員
・2001年2月~2009年3月 NTT物性科学基礎研究所 研究員
・2009年4月~2022年3月 名古屋大学工学研究科 准教授
 (2011年3~8月 Neel Institute, CNRS, France, 客員研究員 兼務)
・2022年4月~ 現職 
   早稲田大学大学院情報生産システム研究科 教授
    (2022年6月~2023年3月 名古屋大学工学研究科 客員教授 兼務)

【学協会での役職等】
・日本応用物理学会東海支部幹事 , 2014年4月 ~2022年3月
・日本磁気学会 企画委員会委員, 2017年9月 ~2021年 3月
・日本応用物理学会APEX-JJAP編集委員:2010年4月 ~ 2016年3月
・日本真空学会 SP部会(スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会)幹事 、2010年4月 ~ 2014年3月
・日本真空学会東海支部幹事、2013年2月 ~ 2014年1月
・国際学会SSDM論文委員(エリア8)2011-2013 , 2011年4月 ~ 2014年3月

受講対象・レベル

・ワイドギャップ半導体を用いた材料・デバイス開発に興味のある研究者・技術者
・ダイヤモンド半導体材料・デバイス開発の近年の状況に興味のある研究者・技術者 

必要な予備知識

 特に予備知識は必要ありません。

習得できる知識

・ダイヤモンド半導体パワーデバイス開発や研究の最前線について理解できる 

趣 旨

 ダイヤモンドは大きなバンドギャップ(5.45 eV)や、高い移動度(~2000 cm/V・s)、高絶縁破壊電圧(~6 MV/cm),高熱伝導度(~22 W/cm・K)等の優れた物理特性を有する事から,次世代パワーデバイス材料として期待されている。また、大バンドギャップ及び高熱伝導度に加え,化学安定性にも優れている事から極限環境下(高温や放射線下等)で動作するパワーデバイスとしても期待されている。本講座では、ダイヤモンド半導体を用いたデバイス、特にダイヤモンドパワーデバイスに関してその作製技術や測定、解析技術及び最新の技術動向について分かり易く解説を行う。

プログラム

1. はじめに
 1-1 ダイヤモンドの物理特性と半導体パワーデバイスとしてのポテンシャル
 1-2 ダイヤモンド半導体研究の歴史
  
2. ダイヤモンド半導体結晶の作製技術
 2-1 ダイヤモンド単結晶成長技術(高温高圧合成法等)
 2-2 ダイヤモンド薄膜結晶成長(ホモエピ、ヘテロエピ成長)
 2-3 ダイヤモンド半導体のドーピング技術(in-situドープ、イオン注入等)
 2-4 ダイヤモンド終端面と伝導特性制御
  
3. ダイヤモンド半導体パワーデバイス作製技術
 3-1 ダイヤモンドショットキーダイオード
 3-2 ダイヤモンドPNダイオード
 3-3 ダイヤモンド電界効果トランジスタ(FET)
 3-4 その他のダイヤモンドデバイス(バイポーラトランジスタ等)
  
4. まとめ
 4-1 ダイヤモンドパワーデバイスの課題
 4-2 今後の展望