日本の半導体産業への取り組み（RapidusやLSTC等）について解説したのち、レジストの基礎から現在に至る課題まで解説！
フォトレジスト開発に関わる若手技術者から入門者、さらには材料に詳しくない方々に向けて分かりやすく解説します！
　
※ 本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。

R&D支援センターウェビナー

　　　　　　　開催日時：2024年4月22日（月）13：00～17：00
　　　　　　　開催場所：【WEB限定セミナー】※ 会社やご自宅でご受講ください。
　　　　　　　参 加 費：49,500円（税込）

定　員

　30名

備　考

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1）Zoomを使用されたことがない方は、 こちら からミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたについては こちら をご覧ください。
3）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
　無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

講　師

富士フイルム㈱
エレクトロニクスマテリアルズ研究所 シニアエキスパート
藤森　亨 氏

【ご専門】
有機合成化学、有機化学、リソグラフィ

理工学修士（埼玉大学　博士前期課程）
JJAP論文審査官

MNC (International Microprocesses and Nanotechnology Conference),
Program committee, Patterning Materials Section Head
各種学会での招待講演

受講対象・レベル

・フォトレジスト材料開発・原材料開発に携わる若手を中心とした技術者。
・技術者ではないが半導体材料に興味のある方（特に前半）。　

必要な予備知識

　特に予備知識は不要です。

習得できる知識

・フォトレジスト材料の基礎が理解できる。
・最近の日本の半導体関連の騒動？も簡単に分かりやすく解説するので状況が理解できる。
・後半は、限界説のささやかれる化学増幅型レジストと、
　最近話題のメタルレジストに関し分かりやすく解説するので、概況が理解できる。
　もちろん最新の開発動向も。　

趣　旨

　昨今、私たちは新たなデジタル社会に直面、半導体の重要性が以前にも増して重要となっており、毎日のように半導体という言葉を耳にする。IOT、AI、Society5.0等の発展のため、デバイスの高速化、大容量化、省電力化が不可欠で、そのための配線微細化は必須である。それを支えるリソグラフィ微細化には、フォトレジスト材料が鍵技術であり、究極の微細化として期待されたEUVリソグラフィは、35年の時を経てついに2019年に実用化された。
　地政学的観点からも半導体は日本にとって重要なピースとなり政府の半導体への取り組みも前のめりである。簡単に日本の半導体産業への取り組み（RapidusやLSTC等）について解説したのち、レジストの基礎から現在に至る課題まで時間の許す限り解説する。
　フォトレジスト開発に関わる若手技術者から入門者、さらには材料に詳しくない方々に向けて分かりやすく解説する。

プログラム

１． 私たちの世の中を取り巻く環境の変化
　　 昨今話題の日本の半導体産業。RapidusやLSTCって？
　　
２． リソグラフィ微細化の歴史
　　　2-1. リソグラフィ？フォトレジスト？どこに使われてる？
　　　2-2. ムーアの法則とそれを実現するリソグラフィ微細化の歴史
　　　2-3. フォトレジストのケミストリーと要求性能
　　　2-4. KrFからArF、そしてArF液浸。何が難しかったのか？
　　　2-5. 富士フイルムによるネガ現像技術（NTD）の発明
　　
３． EUVリソグラフィ
　　　3-1. EUVリソグラフィの歴史
　　　3-2. 最初に立ちはだかった大きな課題、アウトガス問題
　　　3-3. EUVレジスト特有の課題、ストカスティック因子に関して
　　　3-4. フォトンストカスティックとケミカルストカスティック/解決手段例
　　　3-5. 限界といわれる化学増幅型レジストとメタルレジスト　
　　
【質疑応答】