S&T出版ウェビナー
開催日時:2024年2月7日(水)10:30~16:30
受 講 料:52,800円(税込) ※ 資料付(印刷資料)
会 場:【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます。
備 考
<Webセミナーのご説明>
本セミナーはZoomウェビナーを使用したWebセミナーです。
※ ZoomをインストールすることなくWebブラウザ(Google Chrome推奨)での参加も可能です。
お申込からセミナー参加までの流れは こちらをご確認下さい。
<禁止事項>
セミナー当日にZoomで共有・公開される資料、講演内容の静止画、動画、音声のコピー・複製・記録媒体への保存を禁止いたします。
配付資料について
本セミナーの資料はPDF形式(電子データ)で配布予定です。
開催日前日までにダウンロードURLお送りいたします。
※セキュリティポリシー等でダウンロードできない方はご連絡ください。
その場合はe-mail添付にてお送りいたします。
※両方法共に受け取れない方は、開催後にプリントしてお送りいたします。
講 師
岩室 憲幸 氏
筑波大学 数理物質系 物理工学域 教授 博士(工学)
1984年早稲田大学理工学部卒、1998年 博士(工学)(早稲田大学)。
富士電機株式会社に入社。
1988年から現在までパワーデバイスシミュレーション技術、IGBT、ならびにWBGデバイス研究、開発、製品化に従事。
1992年North Carolina State Univ. Visiting Scholar. MOS-gate thyristorの研究に従事。
2009 年5月~2013年3月 産業技術総合研究所。SiC-MOSFET、SBDの研究ならびに量産技術開発に従事。
2013年4月~ 国立大学法人 筑波大学 教授。現在に至る。
専門:
Si-IGBT/Diode ならびにSiC-MOSFET/SBDデバイス研究開発
学会活動:
IEEE Senior Member、電気学会上級会員、応用物理学会会員
パワー半導体国際シンポジウム ISPSD 2021 組織委員会、論文委員会委員
2020, 2021 IEEE IEDM PDS Sub Committee Member
日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞受賞(2020年12月)
電気学会 第23回優秀活動賞 技術報告賞(2020年4月)
電気学会 優秀技術活動賞 グループ著作賞(2011年)
著書:
1.「車載機器におけるパワー半導体の設計と実装」, 科学情報出版 (2019年)
2.”Springer Handbook of Semiconductor Devices“ Editor M. Rudan, R. Brussella, S. Reggiani, Chapter: Silicon Power Device担当・執筆 (Springer, Nov. 2022)
3.“Wide Bandgap Semiconductor Power Devices” Editor B.J.Baliga, Chapert 4 担当・執筆 (Elsevier, Oct. 2018)
4.「世界を動かすパワー半導体 ‐IGBTがなければ電車も自動車も動かない‐」,編集委員,電気学会出版(2008年)
セミナーの趣旨
2023年現在、世界各国は自動車の電動化(xEV)開発に向け大きく進展している。そして2030年代には日、米、欧、中がガソリン車の新車販売を禁止するなど、xEVは、もはや大きな潮流となった。xEVの性能を決める基幹部品であるパワーデバイスでは、新材料SiC/GaNデバイスの普及が大いに期待されている。しかしながら現状では、シリコンパワーデバイスがxEV用途の主役に君臨しており、今後しばらくはシリコンデバイスの時代が続くともいわれている。これはとりもなおさず、SiC/GaNデバイスに代表される次世代パワーデバイスの性能、信頼性、さらには価格が市場の要求に十分応えられていないことによる。最強の競合相手であるシリコンパワーデバイスからSiC/GaNをはじめとした新材料パワーデバイス開発技術の現状と今後の動向について、半導体素子や実装技術、さらには市場予測を含め、わかりやすく、かつ丁寧に解説する。
プログラム
1-1 パワエレ&パワーデバイスの仕事
1-2 パワーデバイスの種類と基本構造
1-3 パワーデバイスの適用分野
1-4 次世代パワーデバイス開発の位置づけ
2. 最新シリコンIGBTの進展
2-1 中国製格安EVにはシリコンMOSFETが搭載されていた
2-2 最新シリコンMOSFET・IGBTを支える技術
2-3 シリコンデバイス特性改善の次の一手
2-4 逆導通IGBT(RC-IGBT)の誕生
2-5 シリコンIGBTの実装技術
3. SiCパワーデバイスの現状と課題
3-1 なぜSiCが新材料パワーデバイスのなかでトップを走っているのか
3-2 各社はSiC-MOSFETを開発中。最大の課題はコスト高にある
3-3 SiCウェハができるまで
3-4 SiC-MOSFETの低オン抵抗化がコストダウンにつながる理由
3-5 SiC-MOSFET内蔵ダイオードの順方向電圧劣化とその解決策
3-6 最新SiC MOSFETデバイス
4. GaNパワーデバイスの現状と課題
4-1 なぜGaNパワーデバイスなのか?
4-2 GaNパワーデバイスはHEMT構造。その特徴は?
4-3 ノーマリ-オフ・ノーマリーオン特性とはなに?
4-4 GaN-HEMTの課題
4-5 縦型GaNデバイスの最新動向
5. 酸化ガリウム・ダイヤモンドパワーデバイスの現状
5-1 酸化ガリウムとその特徴
5-2 酸化ガリウムパワーデバイス最新開発状況
5-3 ダイヤモンドパワーデバイス開発状況
6. SiCパワーデバイス高温対応実装技術
6-1 高温動作ができると何がいいのか
6-2 SiC-MOSFETモジュール用パッケージ
6-3 SiC-MOSFETモジュールに必要な実装技術
7. まとめ