洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術まで幅広く解説！
～「洗浄」と「乾燥」の２つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介～
　
※オンライン会議アプリzoomを使ったWEBセミナーです。ご自宅や職場のノートPCで受講できます。

R&D支援センターウェビナー

　　　　　　　開催日時：2023年12月18日（月）13：00～16：00
　　　　　　　開催場所：【WEB限定セミナー】※ 会社やご自宅でご受講ください。
　　　　　　　参 加 費：49,500円（税込）

定　員

　30名

備　考

・資料付（PDFデータでの配布）※紙媒体での配布はございません。
　無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1）Zoomを使用されたことがない方は、 こちら からミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたについては こちら をご覧ください。
3）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

講　師

　㈱SCREEN セミコンダクターソリューションズ 洗浄開発統轄部 開発戦略部 開発戦略課
プロセス戦略リーダー 修士（工学）　　岩畑 翔太氏

【ご経歴】
　Imec(ベルギーの半導体研究機関) 駐在歴3年
　　
【ご専門】
　プロセス

受講対象・レベル

・半導体洗浄関連の業務にたずさわって1~3年の若手技術者や新人～中堅の方
・半導体の洗浄技術に興味のある方　

必要な予備知識

　特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

習得できる知識

・半導体製造における洗浄の役割を基礎から理解できる
・半導体洗浄に使用される装置や薬液種類や洗浄原理が理解できる
・先端半導体に要求される洗浄技術の課題や最新の洗浄技術が理解できる　

趣　旨

　半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。
　
　まずは半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。
　
　本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の２つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

プログラム