※ 本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。

R&D支援センターウェビナー

　　　　　　　開催日時：2023年12月4日（月）12：30～16:30
　　　　　　　開催場所：【WEB限定セミナー】※ 会社やご自宅でご受講ください。
　　　　　　　参 加 費：49,500円（税込）

備　考

・資料付（PDFデータでの配布）
　※紙媒体での配布はございません。
　※資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1）Zoomを使用されたことがない方は、 こちら からミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたについては こちら をご覧ください。
3）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

講　師

　東京電機大学 大学院工学研究科 非常勤講師　　市川 幸美 氏

【学位】
工学博士

【専門】
プラズマプロセス、シリコン系太陽電池

【略歴】
1980年　武蔵工業大学大学院博士課程修了(工学博士)（プラズマ工学専攻）
1980年　カナダYork Univ.とMcMaster Univ.でポスドク
1982年　アメリカWright State Univ. Brehm Res. Lab.研究員
1983年　富士電機入社。　総合研究所にてアモルファスSi太陽電池の研究開発
2000年　半導体事業部にてパワー半導体デバイスのプロセス開発
2007年　富士電機アドバンストテクノロジー(株)取締役、兼）電子デバイス技術センター長としてワイドギャップ半導体デバイス（SiC,GaN）、太陽電池等の研究開発を統括
2013年　文科省）革新的エネルギー研究開発拠点形成事業（Future-PV Innovation)にて研究統括補佐としてナノワイヤー太陽電池の研究開発
2017年～2022年　東京都市大学総合研究所客員教授

受講対象・レベル

　半導体プロセスや薄膜形成などに用いるプラズマについて、その基本的な機構、およびエッチングや成膜技術についての原理を理解したい方。

必要な予備知識

　特にプラズマについての予備知識は必要ありません。基礎から解説します。

習得できる知識

　半導体プロセスに用いられるプラズマの特徴と基礎、プラズマCVDの原理とSi系薄膜の膜質制御の考え方、ドライエッチングの原理と種々のエッチング手法などが習得できる。

趣　旨

　プラズマは現在では産業の広い分野で日常的に使われています。しかし、プラズマの原理やプラズマを用いることの利点については、あまり系統的に学ぶ機会がないと思います。現在の応用だけでなく、今後道具としてさらにプラズマを利用していくためには、その物理的な考え方、特徴を理解することが不可欠になります。そこで、本セミナーでは、まず前半で薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマ（非平衡プラズマと呼ばれる）の生成機構や特徴について解説します。後半ではそれらを踏まえて、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて説明します。

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