＊ 本ウェビナーは開催済みです。再開催のご要望があれば、お知らせください。
CMCリサーチウェビナー【ライブ配信】
開催日時：2023年8月25日（金）13:30～16:30
受 講 料：44,000円（税込） ＊ 資料付
＊メルマガ登録者 39,600円（税込）
＊アカデミック価格 26,400円（税込）
パンフレット
※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、下記リンクから視聴環境をご確認ください。
→ https://zoom.us/test
★ アカデミック価格:学校教育法にて規定された国、地方公共団体および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
★【メルマガ会員特典】2名以上同時申込かつ申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、1名あたりの参加費がメルマガ会員価格の半額となります。
★ お申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。
講 師
羽深 等 氏
横浜国立大学 名誉教授 / 反応装置工学ラボ 代表
【講師経歴】
1979年3月 新潟大学 理学部 化学科 理学士
1981年3月 京都大学大学院 理学研究科 化学専攻 理学修士
1996年9月 広島大学大学院 工学研究科 博士（工学）
1981年4月～2000年3月 信越化学工業（信越半導体）、
2000年4月～2002年3月 横浜国立大学 工学部物質工学科 助教授
2002年4月～2022年3月 横浜国立大学大学院 工学研究院 教授
2022年4月 横浜国立大学大学院 工学研究院 名誉教授
2022年4月 反応装置工学ラボラトリ 代表
【研究内容】
(1) 半導体シリコンウエハ湿式洗浄装置（枚葉式・バッチ式）の解析・設計
(2) 半導体シリコンと炭化珪素の 薄膜成長（CVD, PECVD）・エッチングのプロセス開発と解析
(3) 半導体シリコン表面の分子吸着・脱離挙動の測定と解析
【所属学会】
応用物理学会、化学工学会、エレクトロニクス実装学会、日本結晶成長学会、空気清浄協会、米国電気化学会、 米国化学会
セミナーの趣旨
半導体表面の汚れを原子レベルで洗うには、（1）薬液を選び、（2）表面に付きまとう水の層（境界層）の下（奥）で反応 させ、（3）取れた汚れを表面に戻さない工夫が大切であり、（4）工程全体を水流が支えています。そこで、薬液について 選び方を説明した上で、狭い溝と深い孔を洗うための薬液量が意外なほど多いことを示します。水流については、湿式洗浄の 実機（枚葉式装置とバッチ式装置）の実例と改善例を可視化観察動画と数値計算例で具体的に解説します。超音波によって洗 浄槽内に生まれる水と気泡の動きも、動画で紹介します。以上をまとめた上で、トラブル対策の視点について説明します。
セミナー対象者
半導体製造に関わる企業の生産現場と開発現場で洗浄を主担当とする技術者、および、洗浄を手段として使っている技術者
先端材料の表面を取り扱っている技術者及び研究者
セミナーで得られる知識
(1) 薬液の機能と使い分け
(2) 水流を理解し、改善する視点
(3) 微細パターンが洗浄において具体的に意味すること
(4) トラブルの分類と対策の選択法
プログラム
※ 適宜休憩が入ります。
2) 一般の洗浄（洗浄の４要素:温度、時間、化学、力学）
3) 半導体の洗浄に特有のこと
4) 先端技術情報源（国際学会・国内学会）
5) 半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
5-1) 表面の現象とプロセス
（付着・脱離・引き剥がす・こする・乾かす）
5-2) 流れ、熱、拡散、反応
5-3) 装置内流れの種類（完全混合、押出流れ、境界層）
5-4) 流れの可視化観察（身近な例を動画で紹介）
6) 洗浄機内の流れと反応
6-1) 枚葉式洗浄機（200㎜Φウエハ用実機）
6-1-1) 水の流れ（観察動画と計算例）
6-1-2) 化学反応の例
6-2) バッチ式洗浄機（300㎜Φウエハ用実機）
6-2-1) 水の流れ（観察動画と計算例）
6-2-2) 水流の最適化（変えてみた例）
6-3) 超音波の働き
（300㎜Φウエハ用バッチ式洗浄機の観察動画）
7) まとめ：困った時の視点と対策
7-1) 洗えない時、洗いにくい時の対策選択
7-2) 微細空間（溝・孔）が生み出す諸課題と洗浄の視点