化学品の市場調査、研究開発の支援、マーケット情報の出版

~ 静電気障害対策とAIを用いた半導体デバイスの生産技術を含めて ~

CMCリサーチウェビナー【ライブ配信】 のご案内

       開催日時:2023年4月25日(火)13:30~16:30 
       受 講 料:44,000円(税込)  * 資料付
          *メルマガ登録者 39,600円(税込)
          *アカデミック価格 26,400円(税込)
         パンフレット

※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 お申し込み前に、下記リンクから視聴環境をご確認ください。
   → https://zoom.us/test
 ★ アカデミック価格:学校教育法にて規定された国、地方公共団体および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
 ★【メルマガ会員特典】2名以上同時申込かつ申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、1名あたりの参加費がメルマガ会員価格の半額となります。
 ★ お申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。
 
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申込方法

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  * 4名以上の受講については、CMCリサーチまでお問い合わせください。 → お問い合わせページ 
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講 師

 清家 善之 氏  愛知工業大学 工学部電気学科 教授

【講師経歴】
 1990年 旭サナック㈱ 入社 ・静電塗装機用高電圧発生回路の開発 ・半導体デバイス・FPD洗浄装置製造販売 ・電子デバイス用製膜装置の製造販売 ・技術統括・品質保証
 2004年 米国アリゾナ大学 客員研究員 ・半導体デバイスの精密加工プロセス(CMP)の研究
 2007年 埼玉大学(学位取得)
 2016年 愛知工業大学 工学部電気学科 教授
 2022年 la quaLab 合同会社 代表社員(兼務)

【活 動】
研究歴:

 半導体デバイスや液晶パネル等の洗浄装置の開発設計に従事、有機デバイス(有機系太陽電池)の製作プロセスに関する研究に従事
研究分野:
 電気電子材料、半導体デバイスの洗浄プロセス、品質工学

【所属学会】
 応用物理学会、電気学会、電子情報通信学会、静電気学会、精密工学会、The Electrochemical Society(ECS)

セミナーの趣旨

 今や半導体は我々の生活の上でなくてはならないものである。最近では半導体そのものが戦略物資となるほどに重要である。(昨今の台湾領土問題についても、半導体技術の奪い合いとも言われている。)このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。セミナーではできるだけ工学基礎(半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI)も説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。
 また講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても述べます。半導体デバイス製造プロセスにどのようにAIが用いることができるがヒントになると幸いです。
 基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる数年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。
 講義後、質疑応答の時間以外にもメールにてご質問にもお答え致します。

セミナー対象者

 ・半導体デバイス業界に興味がある方
 ・半導体洗浄に関わる入社 2,3年目の若手技術者

セミナーで得られる知識

 ・半導体デバイスの基礎知識(マーケットの概要も含む)
 ・半導体デバイスの洗浄に関する知識

プログラム

      ※ 適宜休憩が入ります。

1. 半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向
  
2. 半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
 
 2-1 電気の基礎
 2-2 半導体の基礎
 2-3 半導体製造プロセス
  
3.半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性 
 3-1 化学的洗浄
 3-2 物理的洗浄
  
4.水流を利用した洗浄について 
 4-1 流体力学の基礎
 4-2 高圧スプレー洗浄
 4-3 二流体スプレー洗浄
 4-4 超音波洗浄スプレー洗浄 
 4-5 ブラシ洗浄
 4-6 次世代の物理的洗浄技術 
  
5.スプレー洗浄時の静電気障害
 5-1 静電気の基礎
 5-2 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
 5-3 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム 
  
6.AIを用いた半導体デバイスの生産技術
 6-1 AIの基礎
 6-2 半導体製造に用いられるAI
 6-3 静電気障害防止を例にしたAIの活用法
  

  
  

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