化学品の市場調査、研究開発の支援、マーケット情報の出版

CMCリサーチウェビナー【ライブ配信】 のご案内

       開催日時:2020年11月9日(月)10:30~16:30 
       受 講 料:50,000円 + 税  * 資料付
          *メルマガ登録者 45,000 円 + 税
          *アカデミック価格 24,000 円 + 税
         パンフレット

※ 本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 お申し込み前に、下記リンクから視聴環境をご確認ください。
   → https://zoom.us/test
 ★ アカデミック価格:学校教育法にて規定された国、地方公共団体および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
 ★【メルマガ会員特典】2名以上同時申込で申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、2名目は無料、3名目以降はメルマガ価格の半額です。
 ★ お申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。
 
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申込方法

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講 師

 遠藤 政孝 氏  大阪大学 産業科学研究所 招聘教授

【講師経歴】
 1983年 松下電器産業㈱入社。以来同社半導体研究センター、パナソニック㈱セミコンダクター社 プロセス開発センターにて、半導体リソグラフィ、レジスト、微細加工用材料の開発に従事。
 2009年から大阪大学 産業科学研究所にて、レジスト、EUVレジストの研究開発に従事。

【学 会】
 フォトポリマー学会企画委員長、フォトポリマー懇話会企画委員長

【著 書】
 「迫りくるAI時代に向けた半導体製造プロセスの今」(情報機構)[共著]他

セミナーの趣旨

 メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードとなっている。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめる。

セミナー対象者

 ・本テーマに興味のある企業の研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリストの方
 ・これらの職種を希望される学生の方

セミナーで得られる知識

 ・レジスト、微細加工用材料の基礎知識
 ・リソグラフィの基礎知識・最新技術
 ・レジスト、微細加工用材料の要求特性
 ・レジスト、微細加工用材料の課題と対策
 ・レジスト、微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向

プログラム

            ※ 適宜休憩が入ります。
1. リソグラフィの基礎
 1.1 露光
 1.2 照明方法
 1.3 マスク
 1.4 レジストプロセス
 1.5 ロードマップ

2. レジストの基礎
 2.1 溶解阻害型レジスト
 2.2 化学増幅型レジスト

3. レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の最新技術
 3.1 液浸リソグラフィ
 3.2 ダブル/マルチパターニング
 3.3 EUVリソグラフィ
 3.4 自己組織化(DSA)リソグラフィ
 3.5 ナノインプリントリソグラフィ

4. リソグラフィの技術展望

5. レジスト、微細加工用材料の技術展望と市場動向
 
 

関連図書

        材料・合成技術

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