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半導体正常における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説!

R&D支援センターセミナー

       開催日時:2020年1月23日(木)12:30~16:30
       会  場:商工情報センター(カメリアプラザ) 9F 第2研修室
                → 会場へのアクセス 
       参 加 費:49,500円(税込、資料付)

講 師

国立大学法人 横浜国立大学 大学院工学研究院 博士(工学) 教授
  羽深 等 氏

【略歴】
1981年 京都大学大学院理学研究科化学専攻修士課程 修了
1981年 信越化学工業株式会社(半導体磯部研究所)
1996年 博士(工学)(広島大学)
2000年 横浜国立大学工学部物質工学科 助教授
2002年 横浜国立大学大学院工学研究院 教授
現在 横浜国立大学大学院理工学府化学・生命系理工学専攻 教授
横浜国立大学理工学部化学・生命系学科 教授
横浜国立大学理工学部副学部長
教育分野 化学工学・反応工学
学協会役職 化学工学会エレクトロニクス部会 部会長
化学工学会反応部会CVD反応分科会 幹事
よこはま高度実装技術コンソーシアム 理事長

定 員

 30名

受講対象・レベル

半導体洗浄技術を構成している要素・要点を知りたい技術者。
半導体洗浄技術の課題を理解しているが、その解決方法を模索している技術者。 

必要な予備知識

大学教養程度の物理・化学 

習得できる知識

半導体洗浄に関わる以下の知識と手法が得られ、洗浄時間と効果の向上に活かせます。
化学工学の基礎(工業生産プロセスの主要要素を成す流れ・熱・拡散などの考え方)
簡易可視化実験(実演)による流れの実感
液体の流れを見抜いて使う考え方
流れの改善により工程短縮、品質向上、などを進める方法
プロセスの限界を見極め、それを乗り越えるための考え方 

趣 旨

 半導体洗浄に関わる基礎知識と手法について、以下のように解説します。湿式洗浄は、(1)薬液や超音波などによって表面から汚れなどを引き剥がすこと、(2)それらを「流れ」によって運び去ること、によって効果が生まれます。即ち、洗浄の大きな要因の一つは、「液体の動き」にあります。しかしながら、流れには難解な印象があるためか、特に半導体洗浄における流れに的を絞った研究例は意外なほど少ないのが実情です。一方で、流れを正面から捉えて、方法の理解、課題の発見と解明・解決、そして改善に結びつけることができれば、その効果は著しいはずです。そこで本セミナーでは、流れを含めて「移動」する現象の基礎事項と法則を説明した後に、流れの可視化実験の実演を通して、流れの見方を説明し、容器内の流れの種類を説明します。次に、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例を紹介し、流れの特徴と問題点を考察します。特に、実際の水の動き、その水流のもとで進行する化学反応、理想的な水の動きとは何か、それを簡便に創り出す方法はなにか、などについて詳述します。

プログラム

1.「流れる」とは
 1-1.半導体洗浄の要素を成す基礎現象(流れ、熱、拡散)
 1-2.基礎現象の法則

2.「流れ」の感覚を掴む
 2-1.流れの可視化実験(実演+映像)
 2-2.流れの種類(循環流れ、一方向流れ)

3.枚葉式洗浄機の流れと反応
 3-1.流れの可視化観察方法と例
 3-2.流れの計算
 3-3.表面反応の解析例

4.バッチ式洗浄機の流れ
 4-1.流れの可視化観察方法と例
 4-2.ノズル設計の視点
 4-3.排出設計の視点
 4-4.検証方法

5.まとめ:半導体洗浄方法と洗浄装置の考え方