化学品の市場調査、研究開発の支援、マーケット情報の出版

S&T出版セミナー

       開催日時:2017年4月27日(木)13:30~、4月28日(金)9:00~
       会  場:ホテル・フロラシオン那須
            栃木県那須郡那須町大字高久丙1796   → 会場へのアクセス 
       受 講 料:84,800円(税込) ※ 宿泊は2名1室です。1人部屋をご希望の方は10,000円追加になります(部屋数に限りがありますので1人部屋をご希望の方はお早目にお申込みください)。

定 員

 20名

スケジュール

4月 27日(木)
12:35 那須塩原駅 → ホテル 無料送迎バス
13:00 受付開始
13:30~18:10 セミナー
19:10~20:40  夕食
※夕食後に講師の方々と意見交換いただける場があります(自由参加)

4月 28日(金)
7:00~8:00 朝食
9:00~12:00 セミナー
12:35 ホテル →  那須塩原駅 無料送迎バス

セミナーの趣旨

 2017年は半導体の量産化が始まって40年となります。著名な先生方もリタイアする年齢を迎えており、貴重な経験談や資料が失われつつあります。そこで、リソグラフィ技術の黎明期を知っているパイオニア的な先生方から、リソグラフィ技術の基礎から最新技術まで学べるセミナーを企画いたしました。リソグラフィ技術それぞれのターニングポイントと、それらをどう乗り越えたか、材料開発の歴史なども語っていただきます。
 本セミナーは、リソグラフィ技術の本髄が学べるだけでなく、先達の研究の取組方についても直接語り合える場としても、若い研究者の方々にとって今後の研究活動に活かせる貴重な機会になると確信しております。
 企業の将来を担う方々のご参加をお待ちしております。

プログラム

第1部 4/27 13:35-14:35
リソグラフィー40年の歴史を振り返って
岡崎信次 氏
元 ギガフォトン㈱
講師略歴
1970年 東京工業大学電子工学科卒業,株式会社日立製作所中央研究所入所
80年~81年 米国Rensselaer Polytechnic Institute に留学,95年 半導体事業部,98年 デバイス開発センタに異動。同年ASETのEUV研究室に室長として出向,2002年 ASET,EUVプロセス技術研究部 部長に就任。06年 日立製作所に帰任,09年 日立製作所退社,ギガフォトン㈱入社,EUVAに出向,2011年 帰任。

IEEE Life Fellow,SPIE Fellow,応物学会フェロー。博士(工学)

 今年でMooreの法則から52年、DenardのScaling則から43年になる。この間、半導体集積回路の微細化は、Rayleighの法則に則り、高NA化、短波長化、解像度向上技術の進化がこれを支え、最近ではマルチプルパターニング技術が利用されている。ただしコストや工程数の増加など課題も多く、次世代のEUV露光技術の早期実用化が求められている。講演では、これらの経緯と今後の開発の行方を議論する。
第2部 4/27 14:35-15:25
g線レジスト開発と歴史
田中初幸 氏
メルクパフォーマンスマテリアルズ㈱ 誘電材料研究開発部門 マネジャー
講師略歴
1979年4月 東京都立大学理学部卒業。同大学卒業以来,長年フォトレジスト及び関連薬品開発業務を経た後に,メルクパーフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社に勤務(2017年1月1日よりメルクパーフォーマンスマテリアルズ株式会社に社名変更),現在は誘電材料研究開発部門にて半導体用途の絶縁材料研究開発に携っている。
 私が半導体リソグラフィー材料に携わる仕事に就いたのは、今をさかのぼること40年ほど前になる。当時は256kDRAMが量産されていた時代であった、その頃のリソグラフィー用レジスト材料としてはゴム系ネガレジストからポジレジストに代わっていく過渡期であった。ここではポジレジストの露光装置としてアライナーからg線ステッパーに代わり、露光装置に合わせたレジスト材料の開発が盛んに為された時期であったが、当時の開発の様子をご紹介したい。
第3部 4/27 15:40-16:30
i線レジスト開発と歴史
花畑 誠 氏
富山県立大学 工学部 客員教授
講師略歴
1976年3月 大阪大学大学院工学研究科応用化学専攻修了
1976年4月 住友化学入社。フォトレジストの開発に従事
1997年8月 ㈱KRI 入社。主として電子材料に関する受託研究に従事
2006年4月 日産化学工業㈱入社。電子材料の企画開発、研究に従事
2014年4月~ 富山県立大学 工学部 客員教授、神奈川大学工学研究科 客員教授
 g線の次はEB(電子線)と言われていたにもかかわらずi線が長く用いられた理由、またg線からi線に移行した経緯や材料開発での工夫をこれまであまり公表されてこなかった裏話を交えてお話ししたい。
第4部 4/27 16:30-17:20
KrFレジスト開発と歴史
鴨志田洋一 氏
神奈川大学 工学部 講師
講師略歴
1973年 東京大学大学院工学系研究科合成化学専門課程修了
1973~2011年 JSR㈱、フォトレジストの研究開発、マーケティング、知的財産部長、テクノポリマー㈱常勤監査役、千葉大学客員教授、東京大学大学院非常勤講師、インターリサーチ社長
2010年~現在 神奈川大学講師兼務
2016年現在 フォトポリマー懇話会会長、電気学会光応用技術調査専門委員、高分子学会フェロー
 レジスト材料の高解像度化は、露光に用いる光の波長を短くすることで実現されてきた。KrFエキシマレーザを光源としたKrFエキシマレーザリソグラフィを実現するためには新しいレジストシステムである化学増幅型のレジストの開発とこれを使いこなすための多くのイノベーションが必要であった。ノボラック系のi線レジストからKrFレジストにたどり着くまでの研究開発の歴史をハードウェア、プロセス技術の進歩も含めて俯瞰する。
第5部 4/27 17:20-18:10
ArFレジスト開発と歴史
野崎耕司 氏
富士通㈱ 法務・コンプライアンス・知的財産本部 R&D情報統括部 シニアマネージャー
講師略歴
1988年 北海道大学理学研究科化学専攻系修士課程修了
1988年~1993年 富士通㈱,ArFレジスト材料の合成・開発
1993年~2014年 ㈱富士通研究所,ArFレジスト・リソグラフィ関連材料の合成・開発,実装技術の研究開発
2012年 博士(工学)(筑波大学物性・分子工学専攻博士後期課程修了)
2014年~ 富士通㈱,技術誌の編集・発行

2000年~2014年 国際フォトポリマーコンファレンス企画・組織委員
2004年~2014年 MNC論文委員,MNC2014組織委員

 2003年ごろからLSIの量産製造に使用され始めたArFレジストの開発は、1980年代の終わりごろから米国と日本を中心に始まりました。講演では、従来のフェノール性樹脂が不透明なArF光に対して、透明性とドライエッチング耐性を両立できる基材樹脂の化学構造を創製したアプローチを中心に、競合各社の動向も交えながらご紹介いたします。
第6部 4/28 9:00-9:50
EUVレジスト開発と歴史
渡邊健夫 氏
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 所長・教授
極端紫外線リソグラフィ研究開発センター長
講師略歴
昭和34年1月30日大阪市生まれ
平成2年 大阪市立大学大学院理学研究科後期博士課程物理学専攻修了,理学博士
平成2年 シャープ㈱技術本部中央研究所で半導体微細加工技術開発に従事
平成8年 姫路工業大学高度産業科学技術研究所助手,平成16年 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所助教,平成20年 同准教授を経て,平成27年 教授,平成28年より兵庫県立大学高度産業科学技術研究所所長兼教授。
 EUVレジストは10 nm以下の半導体微細加工技術の量産技術として使用される予定になっています。この中で、EUVレジスト開発課題は光源技術の次いで高い優先順位にランクされています。講演ではEUVレジスト開発の歴史を交え、開発の現状と今後の展望について紹介します。また、今後の微細化の必要性についてIoTの観点から論じます。
第7部 4/28 9:50-10:40
黎明期~ ステッパ開発の裏側 ステッパ開発の裏側およびシミュレーョンの歴史
関口 淳 氏
リソテックジャパン㈱ ナノサイエンスグループ 専務取締役兼ナノサイエンスグループ長
講師略歴
昭和58年 芝浦工業大学工学部応用化学科卒
昭和58年 日本ケミテック㈱入社 分析研究所勤務 環境分析を担当
昭和60年 住友GCA㈱入社 レジスト塗布・現像装置のプロセス開発に従事
平成5年 リソテックジャパン㈱設立に参加。レジスト解析装置、リソグラフィーシミュレータの研究開発に従事 現在に至る

平成13年 東京電機大学にて博士(工学)取得

 1977年、USで世界初のステッパが誕生しました。それから、半導体の量産は始まります。本講座ではステッパの誕生秘話を絡めて、ステッパ開発の歴史、日本のお家芸だった、日本の半導体メーカーとステッパの関わりについてお話します。また、後半パートでは、リソグラフィー・シミュレーションソフトウェアで有名なPROLITHの生みの親、クリスマック氏のPROLITH誕生秘話と、その後のシミュレータの発展についてご紹介いたします。
第8部 4/28 10:40-11:40
リソグラフィ技術の進む先
上野 巧 氏
信州大学 ファイバーイノベーション・インキュベーター 特任教授
講師略歴
1979年 東京工業大学理工学研究科博士課程修了(理博)
1979年 ㈱日立製作所中央研究所入所。1995年 ㈱日立製作所日立研究所,2001年 日立化成工業㈱筑波総合研究所(2002~2005年 日立化成デュポンマイクロシステムズ㈱出向 感光性ポリイミド)。
2012年 信州大学ファイバーイノベーション・インキュベーター
 LSIの進展により生活は大きく変わりました。その進展を支えたリソグラフィ・レジスト開発の歴史とその転換点をお話します。さらなる微細化に向けたレジスト開発の課題ついても考えたいと思います。また、ムーア則の限界ともいわれるようになり、パッケージの役割も重要になってきました。パッケージ分野における感光性材料の利用についても目を向けます。