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☆ 真空蒸着、スパッタ、CVDなどの成膜技術について、基礎から実務への活用法わかりやすくを解説! 若手や初学者の方にも最適な講座!

R&D支援センターセミナー

       開催日時:2016年7月29日(金)10:30~16:30
       会  場:江東区文化センター 3F 第3研修室  → 会場へのアクセス 
       参 加 費:49,980円(税込、昼食・資料付)

講 師

三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授 博士(工学) 佐藤英樹 氏

【ご専門】
 薄膜・表面物性工学、ナノ材料工学
【ご略歴】
 1996〜2000 アネルバ(株)(現 キヤノンアネルバ) 半導体装置事業部 技術担当
 上記期間中、量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の開発業務に従事
 2000〜2007 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
 2007〜現在 同 准教授
 2002〜2003 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
 上記期間中、各種成膜法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に関する研究に従事
【ご所属学会】
 応用物理学会、日本真空学会、日本表面科学会、フラーレン・ナノチューブ・グラフェン学会 会員

定 員

 30名

受講対象・レベル

 ・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方
 ・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方

必要な予備知識

 高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します

習得できる知識

 ・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
 ・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識

趣 旨

 スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長(CVD)法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
 本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

プログラム

1.成膜技術に必要な真空・表面物性工学
 1-1. 気体分子運動論の基礎
 1-2. 真空工学の基礎
 1-3. 表面物性工学の基礎

2.真空蒸着法
 2-1. 真空蒸着法の原理
 2-2. 真空蒸着法の種類と装置例
 2-3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
 2-4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項

3.スパッタ法
 3-1. スパッタ法の原理 
 3-2. スパッタ法の種類と装置例
 3-3. スパッタ法で作製される薄膜の例
 3-4. スパッタ法を適用する際の留意事項

4.化学気相成長(CVD)法
 4-1. CVD法の原理 
 4-2. CVD法の種類と装置例
 4-3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
 4-4. CVD法を適用する際の留意事項

5.薄膜評価法
 5-1 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
 5-2 膜組成、膜構造
 5-3 付着力、膜応力
 5-4 電気的特性、光学的特性

6.成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
 6-1 膜質に関するトラブル
 6-2 装置に関するトラブル

 【質疑応答・名刺交換】