トラブル相談・技術開発相談にも応じます！
※ 本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
セミナー修了後、受講者のみご覧いただける期間限定のアーカイブ配信を予定しております。
R&D支援センターウェビナー
開催日時：2024年11月15日（金）13：00～16:30
開催場所：【WEB限定セミナー】※ 会社やご自宅でご受講ください。
参 加 費：49,500円（税込）
定 員
30名
備 考
資料付【PDFにて配布いたします】
【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1）Zoomを使用されたことがない方は、 こちら からミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたについては こちら をご覧ください。
3）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。
・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
講 師
アドヒージョン（株） 代表取締役社長 博士（工学） 河合 晃 氏
http://www.adhesion.co.jp
国立大学法人 長岡技術科学大学 名誉教授
【略歴】
三菱電機（株）ULSI研究所にて10年間勤務し、電子デバイス開発・試作・量産移管・歩留り・工場管理の業務に従事し、半導体デバイスの高精度な微細加工、レジスト開発、コーティングおよび表面処理技術開発に従事した。その後、長岡技術科学大学にて勤務し、レジスト技術、エッチング技術、機能性薄膜、表面界面制御、ナノデバイスなどの先端分野の研究を実施している。各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。現在、長岡技術科学大学 名誉教授、ならびに、技術コンサルティング会社として、アドヒージョン（株）代表取締役社長を務める。著書39件、原著論文166報、国際学会124件、国内学会212件、特許多数、受賞多数、講演会270回以上、日本接着学会評議員、応用物理学会会員、産学連携・技術コンサルティング実績350件以上。
受講対象・レベル
レジスト材料開発、電子デバイスメーカー、レジスト処理装置、プリント基板関係の技術者、および、レジスト材料を扱う方、レジストを使用して製品・開発を生産する方、レジスト分野の技術指導をする方など、広範囲の方を対象としています。
必要な予備知識
半導体の基礎、および物理化学の基礎
習得できる知識
レジスト開発・レジスト処理装置開発・レジストを使用する上での基本的な考え方、ノウハウ、最適化法、トラブル対処法、ユーザー側での評価手法などが習得できます。
趣 旨
現在、レジスト材料は、半導体、ディスプレイ、プリント基板、太陽電池、MEMS等の多くの電子産業分野において、世界市場で実用化されています。その市場規模は、年間1500億円におよび年々拡大しています。その反面、レジスト材料プロセス技術の高度化に伴い、フォトレジストの品質が製品に与える影響も深刻化しています。また、レジストユーザーの要求も幅広くなり、レジスト材料および装置メーカー側は対応に追われる状況です。
本セミナーでは、レジスト材料開発、およびレジスト処理装置関連の技術者、レジストユーザー、リソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説します。また、レジストユーザーの視点とは何かを講師の経験も含めて詳述します。受講者が抱えている日々のトラブルやノウハウ相談にも個別に応じます。
プログラム
・レジスト実用化トレンド（分類）
・ウェットエッチング用レジスト（アンダーカット）
・ドライエッチング用レジスト（選択比、プラズマ耐性）
・めっき用レジスト（ドライフィルム、金属配線形成）
・ソルダーレジスト（プリント基板）
・構造用レジスト（MEMS、3Dプリント）
・厚膜用レジスト（段差平坦化、Orchardの式、多層レジストプロセス）
・カバー用レジスト（TARC,BARC）
・カラーレジスト（ディスプレイ、顔料相分離）
２．レジスト材料・プロセスの基礎(これだけは習得しておきたい)
2-1 レジスト材料とプロセスの最適化
・レジストの光化学反応（ポジ、ネガ、化学増幅型、EUV、TMAH溶解）
・プロセスフロー（CAD設計、シフト量、ラインマッチング、process window）
・ポジ型／ネガ型の選択基準（ピンホール転写欠陥）
2-2 露光描画技術の最適化
・露光システム（回折光、ステッパー、スキャナー、EUV）
・レイリ―の式（解像力、焦点深度）
・重ね合わせ技術（TTL、アライメントマーク）
2-3 レジスト処理の最適化
・光学像コントラスト（光回折劣化）
・残膜曲線（感度、γ値、最適露光時間）
・溶解コントラスト（レジスト垂直性）
・現像コントラスト（現像液濃度の最適化）
・パターン断面改善（段差部変動、寸法リニアリティー、PEB）
・耐エッチングコントラスト（選択比）
2-4 レジスト処理装置・プロセスの最適化とその要点
・HMDS処理（シランカップリング、vapor処理、剥離防止）
・コーティング（スピン、膜厚分布、乱流、スキャン塗布、ラミネート）
・現像（ディップ、パドル、スプレー）
・乾燥（ホットプレート、プロキシミティー、減圧、真空）
・レジスト除去（アッシング、剥離液、IPA乾燥、物理除去）
３．レジスト欠陥・トラブル対策（歩留り向上の最優先対策とは）
3-1 致命欠陥とは
・欠陥と歩留まり（ウェットプロセスの貢献）
・配線上異物（致命／非致命欠陥、ショート／オープン欠陥、バブル欠陥）
・塗布ミスト（エッジ盛上り、EBRエッジバックリンス）
・接触異物（発塵、ウェハケース、ピンセット）
3-2 レジストパターン剥離メカニズムとその影響因子とは
・接着促進要因と剥離促進要因（バランスモデル、破断面解析）
・表面エネルギー（分散・極性成分マップ、付着エネルギーWa、拡張係数S、円モデル）
・応力歪み、膨潤、軟化（応力集中、膜内浸透）
・検査用パターン（サイズ、形状依存性）
・パターン直接剥離解析（DPAT法）
3-3 レジスト膜欠陥と対策
・ストリーエーション（スジ状膜厚むら）
・膜分裂（超薄膜化と自己組織化）
・乾燥むら（乾燥対流とベナールセル、光多重干渉）
・白化（ソルダーレジスト、ソルベントクラック）
・ピンホール、はじき（拡張濡れ対策）
・膨れ（ブリスター）
・現像バブル対策（界面活性剤）
４．参考資料
・塗膜トラブルQ&A事例集（トラブルの最短解決ノウハウ）
・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析法（測定方法）
５．質疑応答
（日頃の研究開発、トラブル相談にも応じます）