半導体洗浄プロセスの基礎から乾燥技術や装置の最新動向まで
　
※ オンライン会議アプリZoomを使ったWEBセミナーです。ご自宅や職場のノートPCで受講できます。

R&D支援センターウェビナー

　　　　　　　開催日時：2024年10月10日（木）10：30～16：15
　　　　　　　開催場所：【WEB限定セミナー】※ 会社やご自宅でご受講ください。
　　　　　　　参 加 費：55,000円（税込）

持参物

受講にはWindowsPCを推奨しております。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。

備　考

資料付

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1）Zoomを使用されたことがない方は、 こちら からミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたについては こちら をご覧ください。
3）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
　無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

講　師

第1講：　オフィスシラミズ 室長　白水 好美　氏

第2講：　(株)SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄要素開発統轄部
　　　　　 洗浄技術開発部 洗浄技術開発一課 宮城 雅宏 氏

＜白水氏　講師紹介＞
【専門】
半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善
【経歴】
1983年 4月-1991年　　 富士通
1991年10月-2013年 9月 日本電気-NECエレクトロニクスｰルネサスエレクトロニクス
2013年11月-2015年12月　Samsung electronics　常務待遇

習得できる知識

＜第1部＞
・半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
・最新の洗浄液技術を習得できます。

＜第2部＞
•半導体装置市場における洗浄装置の位置づけ
•半導体製造工程における洗浄プロセスの役割とその重要性
•半導体洗浄プロセスや洗浄方法の種類や特徴についての知識
•デバイス構造の変化に伴い洗浄プロセスに求められる技術とその開発動向　

趣　旨

＜第1部＞
　半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。

＜第2部＞
　活況を呈する半導体業界において、半導体製造装置産業は大きな役割を担っています。半導体業界における製造装置メーカーの位置づけ、その中で洗浄装置の役割を確認します。その上で半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明し、洗浄対象物や洗浄原理についても解説します。今後ますます複雑化すると予想される半導体製造工程において、洗浄プロセスに求められる技術の概要や最新の開発状況にも触れていきます。また、今回「洗浄」だけでなく「乾燥」にも焦点を当て、その課題や技術トレンドについて紹介する予定です。

プログラム