~半導体の構造、静電気障害対策から先端の洗浄法まで~
1口(1社3名まで受講可能)でのお申込は 受講料 66,000円(税込)/1口 が格安となります。
☆☆☆ Web配信セミナー ☆☆☆
☆☆☆本セミナーは、Zoomを使用して、行います。☆☆☆
トリケップスセミナー
開催日時:2024年10月3日(木)13:00~16:00
参 加 費:お1人様受講の場合 51,700円(税込/1名)
1口(1社3名まで受講可能)でお申し込みの場合 66,000円(税込/1口)
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講 師
清家善之(せいけよしゆき) 氏
愛知工業大学 工学部 電気学科 教授(博士(工学))
<経歴、等>
1990年4月 旭サナック株式会社入社…静電塗装機用高電圧発生回路の開発、半導体デバイス・FPD洗浄装置製造販売、電子デバイス用製膜装置の製造販売技術統括・品質保証室長
2004年~2006年 米国アリゾナ大学客員研究員…半導体デバイスの精密加工プロセス(CMP)の研究
2007年9月 埼玉大学(学位取得)
2016年4月 愛知工業大学 工学部 電気学科 教授
2016年~2021年 旭サナックに向けて品質管理勉強会講師(兼職)
2022年 半導体洗浄に関するweb講習 講師
2022年8月 la quaLab合同会社 設立(愛知工業大学 教員との兼職).
<研究>
半導体デバイスや液晶パネル等の洗浄装置の開発設計に従事、有機デバイス(有機系太陽電池)の製作プロセスに関する研究に従事
<学協会>
応用物理学会、電気学会、電子情報通信学会、静電気学会、精密工学会、The Electrochemical Society、ECS
セミナーの概要
近年、半導体デバイスの進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。
セミナーでは半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学、から説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。また、講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介します。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3~4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。
講義項目
2 半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
2.1 半導体デバイスの基礎
2.2 半導体製造プロセス
2.3 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
2.4 化学的洗浄と物理的洗浄
3 水流を利用した洗浄について
3.1 流体力学の基礎
3.2 高圧スプレー洗浄
3.3 二流体スプレー洗浄
3.4 超音波洗浄スプレー洗浄
3.5 ブラシ洗浄
3.6 次世代の物理的洗浄技術
4 スプレー洗浄時の静電気障害
4.1 静電気の基礎
4.2 半導体デバイスの洗浄の静電気障害
4.3 スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
5 最先端の洗浄方法(表面処理)
*学会等からの情報