化学品の市場調査、研究開発の支援、マーケット情報の出版

~製造設備の耐食性、平滑性、清浄性、洗浄性向上に貢献~
★ 初歩的な電解研磨処理技術、製品処理の流れ、品質管理の説明から実施する際の注意点、適用事例まで分かりやすく解説します!

 
※ 本講座はZoomを使っWEB限定セミナーです。会場での受講はできません。

R&D支援センターウェビナー

       開催日時:2023年5月29日(月)13:00~16:30
       開催場所:【WEB限定セミナー】※ 会社やご自宅でご受講ください。
       参 加 費:49,500円(税込)

定 員

 30名

備 考

・本セミナーは「Zoom」を使ったWEB配信セミナーです。

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1)Zoomを使用されたことがない方は、 こちら からミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2)セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたについては こちら をご覧ください。
3)開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

講 師

 マルイ鍍金工業㈱ 技術部  仁井 啓介 氏

受講対象・レベル

・医薬品製造業者
・半導体製造業者
・食品製造業者
・化学品製造業者
・産業機器製造業者
・その他、電解研磨に興味はあるが内容がよくわからないといった方にお勧めです。 

習得できる知識

・電解研磨技術の基礎(メカニズム、特長、処理法など)
・電解研磨処理の適用事例
・電解研磨技術の応用展開、その他の表面処理メニュー
・電解研磨処理を行う際のポイント、注意点、トラブル事例
・電解研磨後の金属表面 

趣 旨

 近年、ものづくりの高度化が進むにつれて製造設備の品質向上、維持管理やメンテナンスの高度化が課題となっています。特に医薬品製造、半導体製造などの業界では、設備の品質やメンテナンス性向上のため電解研磨等の表面清浄化処理が施されることが多くなってきています。これらの処理を施すことにより製造設備の耐食性、平滑性、清浄性、洗浄性が向上し、大変喜ばれています。そして現在、これらの技術は製造設備以外の様々な分野にも適用が広がってきています。
 本講演では、今後ますます重要性が大きくなる金属表面の電解研磨処理技術について、ごく初歩的な処理技術、製品処理の流れ、品質管理の説明から実施する際の注意点、適用事例まで出来るだけ平易に解説いたします。

プログラム

1.電解研磨技術の基礎
  1-1.電解研磨技術の紹介
   1-1-1.電解研磨のメカニズム(概要~粘性層、IV特性など)
   1-1-2.電解研磨の目的、特長
   1-1-3.電解研磨の利点、欠点、できること、できないこと
   1-1-4.電解研磨後の表面
   1-1-5.製品処理の流れ
  1-2.電解研磨後表面の評価方法
   1-2-1.表面状態の確認
   1-2-2.汚染物質の検出
   1-2-3.検査、品質管理、品質保証
  1-3.電解研磨処理の注意点と発生しやすいトラブル
   1-3-1.下地処理の影響
   1-3-2.ルージュの発生と除去
   1-3-3.EP液の染み出し
   1-3-4.その他の注意点
  
2.電解研磨処理の適用事例
  2-1.産業用大型設備の処理事例
   2-1-1.医薬品製造タンク
   2-1-2.真空チャンバ
  2-2.産業用小型部品の処理事例
   2-2-1.パイプ、配管
   2-2-2.継ぎ手、フランジ
  2-3.適正な電解研磨処理を行うためのポイント
  
3.電解研磨技術の応用展開
  3-1.電解バリ取り
   3-1-1.電解研磨の特徴を生かしたバリ取り
   3-1-2.電解バリ取りの処理事例
  3-2.ステンレス以外の金属の表面処理
   3-2-1.鉄系材料の表面処理
   3-2-2.アルミニウムの表面処理
   3-2-3.レアメタルの表面処理
  3-3.加速器用部品の電解研磨
   3-3-1.加速器部品の電解研磨
  3-4.その他の表面処理メニュー
   3-4-1.PS洗浄
   3-4-2.不働態化処理、P-MAX
   3-4-3.陽極酸化
   3-4-4.化学研磨
   3-4-5.その他
  
4.事前質問事項の回答と質疑応答
  

スケジュール

13:00-14:40 講義
14:40-14:50 休憩
14:50-16:30 講義

※ 講義の進行状況により多少前後いたします。