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R&D支援センターセミナーのご案内

       開催日時:2019年5月29日(水)12:30~16:30
       会  場:商工情報センター(カメリアプラザ) 9F 会議室
                → 会場へのアクセス 
       参 加 費:49,980円(税込、資料付)
            お申し込み受付中

申込方法

 下記のカートへの投入、あるいはFAX用紙にてお申込ください。折り返し、聴講券、会場地図、請求書を送付いたします。

 FAX申込用紙PDF 

講 師

 オフィスシラミズ 室長 博士(工学)  白水 好美 氏

<専 門>
 半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術

<活動等>
 SEMI シリコンウェーハ委員会テストメソッドタスクフォース委員
 IRDS 歩留向上委員会メンバー
 2008年5月 公益社団法人空気清浄協会 感謝状 白水好美 
 2013年12月 SEMI JRSC(日本地区スタンダード委員会) 功労賞 白水好美

定 員

 30名

受講対象・レベル

 研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方

必要な予備知識

 特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

習得できる知識

 半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。

趣 旨

 半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要である。洗浄の意義を一緒に考えましょう!

プログラム

1. 序論-汚染が半導体デバイスに与える影響
 1-1. 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
 1-2. 分子汚染(HN3, アミン、有機物、酸性ガス成分)
 1-3. 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

2. 洗浄技術
 2-1. RCA洗浄
 2-2. 各種洗浄液と洗浄メカニズム(薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄)
 2-3. 洗浄プロセスの動向
 2-4. 最先端の洗浄技術とその問題点

3. その他の汚染制御技術
 3-1. 工場設計
 3-2. ウェーハ保管、移送方法

4. 次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
 4-1. 新洗浄乾燥技術(超臨界CO2洗浄乾燥、PK(パターンキーパー)剤乾燥)
 4-2. 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

【質疑応答・名刺交換】