＊ 本セミナーは開催済みです。再開催のご要望があれば、お知らせください。
CMCリサーチセミナー
開催日時：2019年4月22日（月）13:30～16:30
会 場：ちよだプラットフォームスクウェア B1F R005 → 会場へのアクセス
〒101-0054 東京都千代田区神田錦町3-21
受 講 料：45,000円（税込） ※ 資料代含
＊ メルマガ登録者は 40,000円（税込）
＊ アカデミック価格は 25,000円（税込）
パンフレット
★ アカデミック価格：学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
★ 【メルマガ会員特典】2名以上同時申込で申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、2人目は無料です（1名価格で2名まで参加可能）。また、3名目以降はメルマガ価格の半額です。
★ セミナーお申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。
講 師
有光 晃二 氏 東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授
平成9年7月 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 電子化学専攻 博士課程中退
同年7月 東京工業大学 資源化学研究所 光機能化学部門 教務職員
平成13年3月 博士(工学) 東京工業大学
同年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 助手
平成18年4月 マサチューセッツ工科大学 在外研究員[平成19年3月まで]
平成19年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 講師
平成22年4月 東京理科大学 理工学部 工業化学科 准教授
平成29年4月 東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授(平成29年4月から学科名が工業化学科から先端化学科に改称) 現在に至る。
【研究歴】
光開始剤、フォトレジスト、UV 硬化材料、潜在性硬化剤、酸増殖剤、塩基増殖剤の開発に従事
【所属学会】
ラドテック研究会 副会長、高分子学会 精密ネットワークポリマー研究会 運営委員長
【著 書】
有光晃二監修、「UV・EB硬化技術の最新応用展開－3Dプリンターから住環境まで－」、シーエムシー出版、2014（他35冊）
セミナーの趣旨
光硬化技術にとって、光開始剤は極めて重要なアイテムである。これらの性能によってＵＶ硬化材料の硬化特性が決まってしまうといっても過言ではない。さらに、光開始剤と光源とのマッチングも重要である。本セミナーではUV 硬化反応の基礎について、光開始剤の特性と硬化機構の両面から解説する。
最新のトピックスとして、演者らが開発した新規な光ラジカル重合開始システム、ノンアウトガスタイプの光塩基発生剤、高感度な光強塩基発生剤、および光潜在性チオールとその応用についても紹介したい。さらに、酸・塩基増殖反応を利用した“光化学＋熱化学反応”をはじめとする様々な高感度化および影部分の硬化不良対策の手法についてもわかりやすく解説する。
セミナー対象者
UV硬化の基礎、光開始剤について学びたい人であれば誰でも。有機化学、高分子化学の基礎を知っていることが望ましいが、必須ではない
セミナーで得られる知識
UV硬化反応の基礎知識、UV硬化の最新情報、開始剤の選び方、硬化不良対策、影部のUV硬化
プログラム
※ 適宜休憩が入ります。
1. UV硬化に必要な光化学の基礎
1-1. UV硬化に必要な光化学の基礎
1-2. 光源の選択
2. 光開始剤
2-1. 光ラジカル重合開始剤の特性とUV硬化への応用
2-2. 光酸発生剤の特性とUV硬化への応用
2-3. 光塩基発生剤の特性とUV硬化への応用
2-3-1. 第1級､第2級アミン発生系
2-3-2. 第3級アミン､強塩基発生系
2-4. 光潜在性チオールの特性とUV硬化への応用
3. カスケートﾞ式化学を利用した影部分のUV硬化
3-1. 酸増殖剤の開発と応用
3-2. 塩基増殖剤の開発と応用
3-3. 連鎖硬化剤を利用したUV硬化
3-4. フロンタル重合系
3-5. 光塩基発生剤を利用したレドックス開始重合系