* 本セミナーは開催済みです。再開催のご要望があれば、お知らせください。
CMCリサーチセミナー
開催日時:2018年9月26日(水)10:30~16:10
会 場:ちよだプラットフォームスクウェア 5F → 会場へのアクセス
〒101-0054 東京都千代田区神田錦町3-21
受 講 料:54,000円(税込) ※ 資料代、昼食代含
* メルマガ登録者は 48,000円(税込)
* アカデミック価格は 25,000円(税込)
パンフレット
★ アカデミック価格:学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。
★ 【メルマガ会員特典】2 名以上同時申込で申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、2人目以降はメルマガ価格の半額です。
★ セミナーお申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。
セミナーの趣旨
マイクロLEDは、LEDチップ自体を画素として活用できるため、フレキシブルやローラブル画面の実装に適しており、色再現性と電力消耗量および応答速度という面で有機ELよりはるかに優れている。それゆえに次世代ディスプレイ候補として、電機各社の研究開発は激化している。本セミナーでは、次世代のマイクロLED の研究開発を通じて、材料・技術を探る。
セミナー対象者
半導体発光デバイス、結晶成長、ディスプレイ基礎技術の開拓者。マイクロLED技術に興味を持つ企業の技術者、半導体やpc接合の物理に関して、基礎的な素養を有する方
セミナーで得られる知識
InGaN系発光デバイスの課題、ナノ結晶効果(課題解決への期待)、ナノ構造デバイス、ナノ結晶の成長制御、赤・緑・青色集積型LED、ナノコラムフォトニック結晶効果と面発光型レーザ、マイクロLEDディスプレイ結晶、窒化物LEDを用いてマイクロLEDディスプレーを実現するための現時点における技術的問題点、その解決策の一例としてのスパッタ成膜技術、今後の技術的展望など、窒化物半導体可視LEDの現状、希土類イオンからの発光(内殻遷移に起因する発光)、Eu添加GaN赤色LEDの特徴と現状、等
プログラム
講演1.GaNナノコラム発光デバイス | 10:30~12:00 | |
【講 師】 | 岸野克巳 氏 上智大 特任教授、ナノテクノロジー研究センター長 | |
【講師経歴】 | 1974~1984年(東工大) 1980年:工学博士、直ちに助手・1.2-1.6μm帯GaInAsP/InP光通信用レーザ、光集積回路の研究・AlGaAs/GaAs光計測用レーザ、0.67μm波長GaInAsP赤色レーザ 1984~2018年(上智大):専任講師、助教授、92年教授を経て、18年定年退職 現在、上智大・特任教授(ナノテクノロジー研究センター長)・0.6-0.67μm域GaInP/AlInP赤色レーザ、・緑~黄色域ⅡⅥ族レーザ、・窒化物半導体結晶成長とナノコラム発光デバイスの研究 |
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【活 動】 | 44年間に亘って、1.6-0.4μmの広い波長域で、半導体レーザの開拓を中心として、半導体結晶の開拓と光デバイスの研究を行った。さらに、最初に創製した窒化物ナノ結晶(GaNナノコラム)を用いて、ナノコラム可視発光デバイスの研究を進め、最近は三原色LEDのモノリシック集積化と二次元配列化、フォトニック結晶ナノコラムレーザなど、ディスプレイ用半導体デバイスの研究を展開している。・IEEE、応用物理学会、電子情報通信学会 フェロー。・日本学術振興会ワイドギャップ半導体光・電子デバイス第162委員会委員長。 | |
【セミナーの概要】 | 一次元GaNナノ結晶(ナノコラム)は、InGaN系可視域発光デバイスの高機能化、高性能化への期待から世界的に研究されている。ナノコラム研究の最前線を詳解しつつ、ディスプレイ用発光デバイスとしての魅力を述べる。ナノコラムによれば、三原色LEDのモノリシック集積化が可能となり、二次元配列化はマイクロLEDディスプレイへの道を拓きうる。ナノコラムフォトニック結晶レーザとしても動作し、配列制御はスペックル抑制に寄与しうる。 | |
【プログラム】 | 1 GaN系半導体光デバイスフロンティアと課題 2 一次元ナノ結晶(ナノコラム)の期待 3 ナノコラム研究史 4 GaNナノコラムの規則配列化 5 ナノコラムによるナノ結晶効果 6 緑~赤色マイクロナノコラムLED 7 モノリシック集積型ナノコラムLED 8 ナノコラムLEDのフリップチップ化 9 ナノインプリントによる大面積化 10 高放射ビーム指向性ナノコラムLED 11 ナノコラムフォトニック結晶とレーザ 12 スペックルフリーレーザへの期待 13 まとめ |
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講演2.フレキシブルマイクロLEDの可能性 |
13:00~14:30 |
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【講 師】 | 藤岡 洋氏 東京大学生産技術研究所 教授 | |
【講師経歴】 | 東京大学工学部卒、カリフォルニア大学バークレー校博士課程終了 富士通㈱勤務、東京大学工学系研究科助手、講師、助教授を経て東京大学生産技術研究所教授 | |
【活 動】 | Si半導体集積回路製造プロセスに関する研究、化合物半導体結晶成長に関する研究、化合物半導体発光素子および電子素子に関する研究 応用物理学会フェロー、日本結晶成長学会評議員、日本学術振興会結晶成長の科学と技術第161委員会委員長 | |
【セミナーの概要】 | マイクロLEDは有機ELのディスプレーを置き換える次世代表示素子技術として大きな注目を集めている。マイクロLEDディスプレーを実用化するためには、安価な大面積基板上にGaN-LEDアレイを作製する技術を開発する必要があるが、本セミナーではスパッタリングによる窒化ガリウム成長技術を用いた大面積フレキシブルマイクロLED作製の可能性について、この分野に関する専門知識のない技術者にもわかるように平易に解説する。 | |
【プログラム】 |
1 開発の背景
1.1 表示素子の技術的流れ 1.2 マイクロLEDの重要性 1.3 マイクロLED製造の技術的問題点 1.4 スパッタGaN成長技術の利点 2 スパッタ法によるGaNの成長技術 3 スパッタ法を用いて試作したGaN素子の特性 4 スパッタ法を用いて低価格基板上に試作したGaN素子の特性 |
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講演3. 波長超安定・狭帯域窒化物半導体赤色発光ダイオードの現状と将来展望 |
14:40~16:10 | |
【講 師】 | 藤原康文 氏 大阪大学大学院工学研究科 教授、ナノサイエンスデザイン教育研究センター センター長 | |
【講師経歴】 | 1981年 大阪大学基礎工学部電気工学科卒業 1985年 大阪大学大学院基礎工学研究科博士後期課程中途退学 1985年 大阪大学・助手 1991年 大阪大学・講師 1993年 名古屋大学・助教授 1995年 米国イリノイ州立大学アーバナ・シャンペーン校・客員准教授(~1996年) 2003年 大阪大学・教授 2015年 大阪大学・副理事(~2016年) 2017年 大阪大学ナノサイエンスデザイン教育研究センター・センター長、現在に至る。 |
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【活 動】 | <研究歴> 半導体、超伝導体、絶縁体など、各種電子材料において、ミクロな構造を作製・制御することによりマクロな物性を効果的に発現させる「ボトムアップ型機能制御」に取り組んでいる。最近では、半導体の中で希土類元素を操り、新規機能を発現させることに注力している。 <所属学会> <著 書> |
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【セミナーの概要】 | 講師は赤色蛍光体に広く用いられる3価のEuイオンを添加したGaNを活性層とする発光ダイオード(LED)を作製し、電気を流すことにより高輝度な赤色発光を得ることに世界で初めて成功している。本発明の赤色LEDは従来のAlGaInP/GaAs系赤色LEDと異なり、結晶成長技術により青色/緑色LEDと併せて、同一基板上に集積化することが可能である。講義では、本研究の背景と現状について解説する。 | |
【プログラム】 |
1 研究の背景
2 窒化物半導体発光ダイオード(LED)の現状 2.1 青色/緑色LED 2.2 赤色LED 3 Eu添加GaNと赤色LEDへの展開 4 Eu添加GaN赤色LEDの高輝度化 5 将来展望 |
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