＊ 本セミナーは開催済みです。再開催のご要望があれば、お知らせください。
CMCリサーチセミナー
開催日時：2016年6月13日（月）13:00～16:50
会 場：あすか会議室 神田小川町 4階 401会議室 → 会場へのアクセス
〒101-0052 東京都千代田区神田小川町2-1-7 日本地所第7ビル
参 加 費：48,000円（税込） ※ 資料代含
＊ メルマガ登録者は 43,000円（税込）
パンフレット
講 師
長谷川 雅考氏 / 国立研究開発法人産業技術総合研究所 研究グループ長、グラフェンコンソーシアム会長
≪講師略歴≫
専門分野は材料工学、炭素材料のCVD合成技術開発。2013年4月より、国立研究開発法人産業技術総合研究所グラフェンコンソーシアム会長に就任。2015年4月より、国立研究開発法人産業技術総合研究所のナノ材料研究部門にて、ダイヤモンド半導体の電気伝導性制御、ダイヤモンドのCVD成長、ナノ結晶ダイヤモンド薄膜のCVD合成、グラフェンのCVD合成などの開発に従事している。
セミナーの趣旨
≪講師から≫
ここ数年グラフェンは合成技術、量産技術、用途開発などすべての方面において大きく進歩している。本講座ではグラフェンの特性および合成法の基礎をレビューし、それをもとに最新の技術開発動向を議論する。
現在グラフェンは、近い将来の実現を目指した用途に的を絞った開発が進んでいる。さらに実現までにある程度時間を要するチャレンジングな用途も含めて多岐にわたった検討が進んでいる。具体的にどのような分野で実現しそうなのか、世界的な開発の方向性はどうかなど、最前線の動向を把握する機会とし、これからグラフェンの取り扱いを始めたい方から、グラフェンの開発をすでに進めている方まで、それぞれのフェーズに合わせて業務に役立つ講座とする。
プログラム
1.1 特性のまとめ
1.2 電気的特性・光学的特性の基礎
1.3 機械的特性
1.4 熱的特性
1.5 ガス透過性
2. グラフェン研究開発の歴史
2.1 グラフェンの理論的予測
2.2 最初のグラフェンの発見
2.3 グラファイトのテープ剥離による世界初のグラフェンの単離
2.4 エポックメーキングな実験
2.5 日本の炭素材料開発およびグラフェン開発
3. グラフェンの形成法
3.1 剥離などによるグラフェンの形成
3.2 酸化グラフェンおよび酸化グラフェンの還元による剥離グラフェンの形成
3.3 酸化グラフェンを経ない剥離グラフェンの形成
3.4 熱CVDによるグラフェンの形成
3.5 プラズマを利用したグラフェンのCVD合成
3.6 グラフェンの高スループットCVD合成の試み
3.7 その他の形成法
4. グラフェンの量産に向けた試みと現状の課題
4.1 酸化グラフェン大量生産の現状
4.2 CVDグラフェンのロールツーロール合成の試み
5． バンドギャップを形成する試み （半導体用途を目指して）
5.1 二層グラフェンによるバンドギャップ形成
5.2 ナノリボンによるバンドギャップ形成
6． グラフェンの用途開発の現状
6.1 透明導電膜用途
6.2 バッテリー関連用途
6.3 フィルタレーション用途
6.4 ガス高純度化用途
6.5 電子デバイス用途
6.6 その他の用途の可能性
6.7 すでに商品化が達成された用途
7. 世界のグラフェン研究開発動向
7.1 世界で実施中の大規模プロジェクト
7.2 特許出願状況（国別比較）
7.3 特許出願状況(企業、機関別比較)